CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V 21.336.629/0001-87

Visão geral

A empresa CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V foi fundada em 31 de outubro de 2014. Sendo inscrita sob o CNPJ 21.336.629/0001-87. Atualmente está localizada na cidade de Maringá, no estado de Paraná. Sua principal atividade econômica é atividades associativas não especificadas anteriormente.

O capital social investido pelo proprietário foi de R$ 0,00 em sua constituição. A empresa é classificada como uma demais, e sua natureza jurídica é de associação privada. No momento, a situação do estabelecimento na Receita Federal está como baixada.

O empreendimento é composto por um quadro societário formado por uma única pessoa. Com apenas uma unidade, sendo essa a matriz. A empresa é optante pelo isenta do irpj como regime tributário e ficou em funcionamento por 4 anos, 10 meses e 3 dias.

Localização

  • Rua Tiete, Nº 130 - Zona 07
  • Maringá, Paraná
  • CEP 87020-210

Contato

  • (44) 3025-5380

Quadro societário

Constituição empresarial

Razão social
Associacao dos Condominos do Edificio Chaplin V
Nome fantasia
Condominio Ediicio Chaplin V
CNPJ
21.336.629/0001-87
Capital social
R$ 0,00
Data de abertura
31/10/2014
Tempo em atividade
4 anos, 10 meses e 3 dias
Porte
Demais
Situação atual
Baixada
Natureza jurídica
Associação privada
Regime tributário
Isenta do IRPJ
Unidade
Matriz
Formação societária
1 pessoa

Atividades econômicas

Atividade principal

9499-5/00Atividades associativas não especificadas anteriormente

CNAE Descrição
9499-5/00 Atividades associativas não especificadas anteriormente

Concorrentes

ANJOS DOS ANIMAIS

  • 10.617.885/0001-26

CAMI

  • 46.572.909/0001-15

Perguntas frequentes

O CNPJ da empresa CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V é 21.336.629/0001-87.
Os donos da empresa CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V são: SONIA REGINA FACHIN.
A empresa CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V atua nos seguintes ramos: atividades associativas não especificadas anteriormente.
O endereço da empresa CONDOMINIO EDIICIO CHAPLIN V é: Rua Tiete, Nº 130, Bairro Zona 07, Maringá (PR).