PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG 17.178.195/0026-15

Visão geral

A empresa PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG foi fundada em 25 de março de 1999. Sendo inscrita sob o CNPJ 17.178.195/0026-15. Atualmente está localizada na cidade de Arcos, no estado de Minas Gerais. Sua principal atividade econômica é educação superior - graduação.

O capital social investido pelo proprietário foi de R$ 0,00 em sua constituição. A empresa é classificada como uma demais, e sua natureza jurídica é de associação privada. No momento, a situação do estabelecimento na Receita Federal está como ativa.

O empreendimento é composto por um quadro societário formado por uma única pessoa. Com 77 unidades, sendo essa uma filial. A empresa é optante pelo imune do irpj como regime tributário e está em funcionamento há cerca de 25 anos, 6 meses e 8 dias.

Localização

  • Avenida Yolando Sebastiao Logli, Nº 255 - Distr.industrial Ii
  • Arcos, Minas Gerais
  • CEP 35588-000

Contato

  • (31) 3269-3100

Quadro societário

Constituição empresarial

Razão social
Sociedade Mineira de Cultura
Nome fantasia
Puc-minas Campus Arcos-mg
CNPJ
17.178.195/0026-15
Capital social
R$ 0,00
Data de abertura
25/03/1999
Tempo em atividade
25 anos, 6 meses e 8 dias
Porte
Demais
Situação atual
Ativa
Natureza jurídica
Associação privada
Regime tributário
Imune do IRPJ
Unidade
Filial
Formação societária
1 pessoa

Atividades econômicas

Atividade principal

8531-7/00Educação superior - Graduação

CNAE Descrição
8531-7/00 Educação superior - Graduação
8533-3/00 Educação superior - Pós-graduação e extensão

Concorrentes

ANDRADE GESTAO

  • 39.961.810/0001-40

Perguntas frequentes

O CNPJ da empresa PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG é 17.178.195/0026-15.
Os donos da empresa PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG são: WALMOR OLIVEIRA DE AZEVEDO.
A empresa PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG atua nos seguintes ramos: educação superior - graduação, educação superior - pós-graduação e extensão.
O endereço da empresa PUC-MINAS CAMPUS ARCOS-MG é: Avenida Yolando Sebastiao Logli, Nº 255, Bairro Distr.industrial Ii, Arcos (MG).